沦陷在日本sm俱乐部续
Phone400-615-4535 E-mail[email protected]

AJA磁控濺射系統 Magnetron Sputtering System

ATC FLAGSHIP旗艦系列 磁控濺射系統

  1. 產品說明
  2. 選配件
  3. 詳情咨詢

AJA 的ATC Flagship系列濺射系統是一款多功能的物理氣相沉積設備,可以通過不同的配置來實現不同的需求。這些系統是基于AJA獨有A300-XP (UHV)超高真空或 Stiletto系列 (HV)高真空磁控濺射靶源來配置,這些濺射靶源可以原位偏轉,因而可以實現精確的,可重復的共焦濺射沉積,直接濺射沉積以及離軸濺射沉積。所有系統都配置了重型液壓升降裝置,方便打開腔體上蓋。2.jpg

以下腔室尺寸可供選擇:

ATC 1800 (18" Ø)

ATC 2200 (22" Ø)

ATC 2600 (26" Ø)

這些功能強大的沉積系統可以集成多種沉積方式(電子束蒸發/熱蒸發/PLD脈沖激光沉積),離子源,克努森蒸發池(MBE分子束外延系統),

對靶磁控濺射靶源(FTS),接觸掩模系統,金屬密封腔體,烘干罩,手套箱,基片cassette,自動批量裝載系統,以及分析儀器(RHEED/XPS/Auger/RGA/MOS/橢偏儀等。

可根據應用需求配置Labview電腦控制和渦輪分子泵或低溫泵。所有ATC Flagship系統之間可輕易連接,或者也可以和 ATC Orion系統連接,集成多腔系統(如,金屬或氧化物)或多工藝混合系統(如,濺射/電子束蒸發/熱蒸發/離子刻蝕/分析儀器)。

 

主要特點

可容納112英寸共焦濺射原位偏轉靶源

超薄薄膜沉積(<1nm)、沉積速率可控制

沉積均勻性:優于±1.5% @ 4" (100mm)基片

樣品臺: 加熱1000℃、旋轉0-40RPMRF/DC 偏壓

 RFDCPulsed DCHiPIMS 等電源

可集成4 MFC 氣路 (ArO2N2H2 .)

半自動控制或LabVIEW 計算機控制

 Load-Lock/ 預真空室

 HV UHV (e-10-7 to e-10-10 Torr)

鍍膜材料:金屬、介質、陶瓷、超導、透明導電氧化物、磁性材料、有機材料、壓電材料等

研究方向:磁學、自旋電子學、GMR/MTJ

 


標準沉積速率&均勻性數據

QQ截圖20180523171336.png

 

 

400-615-4535
400-615-4535
沦陷在日本sm俱乐部续 快乐双彩今晚开奖公告 日本av女优性爱高清图片 多乐彩 哈尔滨站街女最多的地方 手机微信麻将开挂软件 3d杀码* 淘股王 东莞桑拿按摩 预测过海3d预测 极速快3 怎么举报手机麻将赌博 吉林11选5走势图 生肖时时彩 打麻将赢真钱平台购买 双球色球开奖 手机体球网足球比分捷报